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利用微電極分析系統(tǒng)對(duì)環(huán)境微生物原位修復(fù)河湖污染底泥的研究

更新時(shí)間:2022-11-30   點(diǎn)擊次數(shù):558次

一、A+B處理組:加入微生物菌劑對(duì)污染底泥pH、Eh、DO的影響

微電極所設(shè)置的參數(shù)是多少:

本次實(shí)驗(yàn)使用Easysensor微電極對(duì)A+B處理組中的沉積物(表面附著藻墊)進(jìn)行測(cè)試。電機(jī)設(shè)置參數(shù):500 μm 步進(jìn)間隔、1s步進(jìn)時(shí)間、1s測(cè)定時(shí)間、55000μm測(cè)試距離、5000μm零點(diǎn)上偏移。以獲取沉積物剖面中Eh、pH及DO等數(shù)據(jù)的垂向變化規(guī)律。

實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?/span>

為改善水體水質(zhì)、削減底泥污染物,以生物手段修復(fù)底泥,重塑良好底泥狀態(tài),恢復(fù)底泥中豐富的生物相。

設(shè)置對(duì)照組目的:

1、模擬原位底泥情況

2、對(duì)比加菌劑前后污染物的削減量

3、設(shè)置不同投放方式,考察生物菌劑對(duì)污染物的影響

測(cè)DO、Eh、pH的目的:

DO(溶解氧)、Eh(氧化還原電位)和pH(氫離子濃度指數(shù))是用來描述介質(zhì)環(huán)境條件的綜合性指標(biāo),也是在水體水質(zhì)治理改善中是必要的一個(gè)指標(biāo)。

進(jìn)行相同投加方式實(shí)驗(yàn)

實(shí)驗(yàn)處理:

A+B微生物菌劑以1%的量投入,菌劑主要以厭氧菌為主。注:所測(cè)樣品的底泥都需要避光處理


注:所測(cè)樣品的底泥都需要避光處理

數(shù)據(jù)結(jié)果:


 image.png

實(shí)驗(yàn)結(jié)論:

結(jié)論:微生物生長(zhǎng)代謝活動(dòng)導(dǎo)致氧化還原電位相較于空白實(shí)驗(yàn)有所降低,由于微生物為厭氧菌,不消耗環(huán)境中的氧氣,并且有少量藻類的生長(zhǎng)使溶解氧有明顯提升。

進(jìn)行不同投加方式實(shí)驗(yàn)

本次實(shí)驗(yàn)使用Easysensor微電極對(duì)A組、B組、A+B處理組中的沉積物進(jìn)行測(cè)試。電機(jī)設(shè)置參數(shù):500 μm 步進(jìn)間隔、1s步進(jìn)時(shí)間、1s測(cè)定時(shí)間、55000μm測(cè)試距離、5000μm零點(diǎn)上偏移。以獲取沉積物剖面Eh和DO等數(shù)據(jù)的垂向變化規(guī)律。

 

實(shí)驗(yàn)處理:

處理1:菌劑點(diǎn)狀注射

處理2:?jiǎn)为?dú)A攪拌1次

處理3:?jiǎn)为?dú)A攪拌2次

處理4:?jiǎn)为?dú)B處理

處理5:A+B處理

注:所測(cè)樣品的底泥都需要避光處理

image.png


實(shí)驗(yàn)結(jié)論:

處理1和5,點(diǎn)狀注射投入菌劑量少,處理效果較A+B處理差,溶解氧和氧化還原電位均低于A+B處理組;

處理2和3,攪拌2次處理會(huì)促進(jìn)底泥釋放污染物同時(shí)增強(qiáng)微生物活性,因此溶解氧和氧化還原電位均低于攪拌1次處理;

處理2和4,單獨(dú)A處理比單獨(dú)B處理溶解氧降低速度更慢,在底泥層中氧化還原電位更高,雖然單獨(dú)A比單獨(dú)B的處理效果更好,但當(dāng)A和B一起施用時(shí),會(huì)產(chǎn)生協(xié)同作用,使溶解氧和氧化還原電位數(shù)值大幅上升。

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